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2021년 ASML은 2nm 및 1nm 공정을 위한 차세대 EUV 리소그래피 머신 출시

Railgun0

6 7908 6 2020.02.18 10:15

출처 : mydrivers 번역기 돌린 거라 오역이 많습니다. 세계에서 유일하게 EUV 리소그래피 기계를 생산할 수 있는 네덜란드 ASML 회사는 작년에 TSMC, 삼성 7nm, 그리고 올해 5nm 기술 양산을 위한 26세트의 EUV 리소그래피를 판매했으며, 35세트의 EUV 라이트 엔그래브 기계가 올해 출하될 것으로 예상됩니다. 현재 ASML가 판매하는 리소그래피 기계는 주로 NXE: 3400B와 NXE의 개량형인 3400C이며 기본 구조는 같지만, NXE: 3400C 모듈식 설계, 유지 보수가 더 편리하며, 수리 시간이 48시간에서 8 -10시간으로 단축 및 7nm, 5nm 지원입니다. 또한, NXE: 3400C의 용량도 이전 125WPH(wafers processed per hour)에서 175WPH로 증가하였습니다. NXE에 상관없이: 3400B 또는 NXE: 3400C, 현재 EUV 리소그래피 기계는 여전히 1세대이며, 주요 특징은 객관적 렌즈 시스템의 NA(숫자 조리개)가 0.33이라는 것입니다. <img src="https://img2.quasarzone.co.kr/web/editor/2002/2002obj___2097709102.jpg" title="e7a2fed70009559a326cbf7ece075832_1581988422_5803.jpg" style="max-width:100%; height:auto;"> 리소그래피 기계의 해상도 공식에 따르면, NA 숫자가 클수록 리소그래피의 정확도가 높습니다. ASML은 새로운 세대의 EUV 리소그래피 EXE: 5000 시리즈 NA 0.55를 개발합니다. 주요 파트너는 마이크로 전자 공학 센터의 Carl Zeiss와 IMEC Belgium입니다. EXE: 5,000은 주로 3nm 시대를 위한 차세대 리소그래피 기계 시리즈 이후, 현재의 공정 기술 로드맵은 삼성, TSMC는 3nm, 2nm, 심지어 1nm 공정도 아직 구상 중이라고 발표했습니다. 생산에는 새로운 제조 장비가 필요하며, 새로운 EUV 리소그래피 기계가 최우선 과제입니다. ASML의 정보에 따르면, EXE: 5000 시리즈 리소그래피 기계는 2021년에 이르면 출시될 것이지만, 첫 번째 시제품은 여전히 프로토타입이며, 실제로 생산에 사용되기까지는 몇 년이 걸릴 것이라고 합니다. 낙관적인 성명은 EXE: 5000 리소그래피 시리즈 NA 0.55가 2023년 또는 2024년에 시장에 나타날 수도 있다는 것입니다. <img src="https://img2.quasarzone.co.kr/web/editor/2002/2002obj___2105576268.jpg" title="e7a2fed70009559a326cbf7ece075832_1581988429_157.jpg" style="max-width:100%; height:auto;">

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